白皮书
用于微透镜制造的无PFAS紫外压印光刻技术
在大规模光学制造中实现精度、均匀性和可持续性
基于紫外线的压印光刻技术是一种高分辨率、可扩展的微纳结构复制技术，特别适用于共封装光学器件(CPO)等光电子学应用。传统的软质PDMS印模由于溶胀而表现出尺寸漂移，这限制了大规模制造的工艺稳定性。
探索全新的可持续紫外压印工艺——结合创新的DELO印模和抗蚀剂材料与先进的SUSS设备——在300毫米晶圆上实现快速、稳定和高度均匀的微透镜制造，适用于大规模光学制造，具有低总厚度变化(TTV)。
您能从这份白皮书中期待什么？
- 先进的SUSS MicroTec设备集成，包括自动化抗蚀剂点胶、楔形误差补偿和干涉仪间隙控制
- 无PFAS材料技术，采用DELO PHOTOBOND VE 556992和DELO KATIOBOND OM6611，实现卓越的工艺稳定性
- 全面的均匀性分析，证明在多个300毫米晶圆上实现低于5微米的总厚度变化(TTV)
- 材料比较研究，显示相对于传统软质PDMS印模在尺寸稳定性方面的优势
- 工艺优化结果，证明透镜尺寸变化最小且分离行为一致
为什么选择这一创新解决方案？
- 卓越的长期工艺稳定性，采用无PFAS、紫外固化stamp材料，消除尺寸偏差问题
- 高效制造，通过先进的设备功能和可重复的压印工艺实现
- 出色的均匀性，对共封装光学器件应用中的光学性能至关重要
- 可持续的大批量生产，将这种材料组合定位为高效大规模制造的理想选择
您的优势一目了然
- 出色的均匀性：在多个300毫米晶圆上实现低于5微米的总厚度变化(TTV)
- 卓越的工艺稳定性：无PFAS材料消除了传统PDMS印模的尺寸差异和溶胀问题
- 高分辨率可扩展性：先进的设备集成为光电子学应用提供可重复的压印
- 一致的性能：透镜尺寸变化最小，分离行为可靠
- 可持续制造：无PFAS配方支持环保的大批量生产
让我们为您带来灵感！
探索SUSS和DELO之间的这一合作开发如何为可持续、精确和高效的微透镜制造树立新标准，将这种材料组合定位为共封装光学器件制造的强有力候选者。
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关于德路
德路是领先的高科技粘合剂供应商，25年来，我们专注服务半导体、汽车与电子行业，以创新技术树立标杆，赢得博世、华为、西门子等伙伴对 DELO卓越粘合剂的信赖。
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