工艺

异质集成

半导体和微电子封装的微型化已达到极限。需要新的解决方案来拓展异质集成和光学封装领域的可能性,例如微坝--由粘合剂制成的超精细结构。它们可以减少阻隔区或起到光学屏障的作用。

微坝

微坝 - 用粘合剂制成的超细结构和光学屏障

用于复杂电路板设计的精密粘合剂

DELO 创新材料可在印制电路板上直接构建微结构,为异质集成与光学封装开辟全新设计空间。借助这款高科技材料,无限自由形态与亚微米级光学屏障均可一步实现。

使用 Micro-Dam 粘合剂可以轻松实现线宽小于 100 微米 、纵横比大于等于 5 的精细结构 。我们的材料非常适合用于精准限制底部填充流动边界,具有出色的精度和控制能力。

DELO 产品的特点是触变指数高。这一特性说明了粘稠度对不同流速的超强适应性。这使得在快速点胶粘合剂的同时,还能形成稳定的微结构。无论是直面还是复杂的曲面,我们的材料都能保证出色的效果

DELO 微坝材料的技术规格

  • 不含卤素和溶剂的丙烯酸酯
  • 高稳定性
  • 点胶速度:高达 26 mm/s
  • 线宽 ≈100 μm 即可实现 1 mm 结构高度
  • 紫外线固化、加热固化或双重固化
  • 通过 JEDEC MSL 等测试标准

我们材料的应用领域

  • 作为截流装置,减少KOZ
  • 光学传感器制造商中的精密屏障

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